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可以在不損失平行度的情況下進(jìn)行樣品拋光設(shè)備Rana-3介紹
Rana-3采用單獨加載方式,允許您自由設(shè)置1到6個樣本。
由于保持架的轉(zhuǎn)速可以改變,因此保持架和圓盤可以以相同的轉(zhuǎn)速進(jìn)行拋光,并且拋光表面不會變得傾斜或鉛筆狀。
支架和圓盤均可向前或向后旋轉(zhuǎn)。
可以在不損失平行度的情況下進(jìn)行磨削!推薦的拋光理論指出,通過以相同的速度和方向旋轉(zhuǎn)支架和盤,可以在不損失工件平行度的情況下進(jìn)行磨削。
Rana-3允許您改變刀柄的旋轉(zhuǎn)速度,因此可以通過沿相同方向和相同次數(shù)旋轉(zhuǎn)而在不失去平行度的情況下進(jìn)行磨削。
此外,拋光盤和支架都可以反向旋轉(zhuǎn),因此即使是左撇子用戶也可以輕松進(jìn)行手動拋光。
粗拋光 砂紙或拋光墊
盤轉(zhuǎn)速200rpm/支架200rpm
精拋鉆石+拋光布
盤轉(zhuǎn)速50-150rpm/支架50-150rpm
壓力可以在設(shè)定的秒數(shù)內(nèi)自動增加或減少!配備自動增減功能,對樣品加壓。
可以輸入從開始到設(shè)定秒數(shù)逐漸增加的壓力。
可以通過設(shè)置秒數(shù)來輸入設(shè)置以逐漸增加或減少壓力。
拋光條件(壓力/轉(zhuǎn)速)可以分3個階段變化!在一次拋光過程中可以輸入和改變?nèi)竭\動。(ABC設(shè)置)
對于脆性材料或鋒利邊緣的樣品,可以從低壓、低轉(zhuǎn)速開始操作,逐漸改為高壓、高轉(zhuǎn)速。
內(nèi)存可儲存16種拋光條件!最多可記錄 16 種拋光條件。
當(dāng)需要制備多個樣品時,可以記住每個樣品的處理條件,從而實現(xiàn)高效工作。
電源 | 單相100V或單相200-220V 三相200-220V |
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尺寸/重量 | W450 x D705(至排水口)x H500(頭部抬起時為630)mm,65kg |
光盤尺寸 | 拋光盤:Φ250mm 鋁質(zhì)拋光盤:Φ250mm 磁面盤:Φ250mm * 拋光盤單獨出售 |
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盤轉(zhuǎn)速 | 50 至 400 rpm(可在正轉(zhuǎn)和反轉(zhuǎn)之間切換) |
電機輸出 | 400W(100/200V:減速電機) |
手術(shù) | (防水)觸摸屏,帶緊急停止按鈕 (數(shù)字式)帶定時器自動停止 可存儲16個拋光條件 ABC設(shè)置(*可分3階段設(shè)置拋光條件) |
給排水功能 | 用供水旋塞打開/關(guān)閉(帶供水/排水軟管) |
支架旋轉(zhuǎn) | 50 至 200 rpm(可在正轉(zhuǎn)和反轉(zhuǎn)之間切換) |
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電機輸出 | 120W無刷電機 |
樣品數(shù)量 | 1~6個任意選擇 *φ50mm最多3個 |
樣品架 | Φ25mm、30mm、40mm x 6 個、Φ50mm x 3 個 *定制尺寸支架和特殊夾具需咨詢 *支架單獨出售 |
壓力 | 1 個樣品 10 至 50N |
潤滑器 | 標(biāo)準(zhǔn)附件(模擬流量調(diào)節(jié)型) |
氣源 | 0.5~0.7Mpa *0.7Mpa以上需另配調(diào)節(jié)器 |